原标题：外媒再次传来好消息!国产光刻机取得重大技术突破:已达到14nm制程
【5月17日讯】相信大家都知道，自从中兴、华为等国内三百多家科技企业被列入到“实体清单”以后，也让国内很多科技企业、消费者纷纷开始认识到，发展属于我们自主可控的国产芯片、国产系统的重要性，尤其是在国产芯片领域，由于我国的芯片制造技术存在很多技术短板，直接导致我国的芯片产业链得不到高端芯片制造技术的支持，从而让很多国产芯片公司所设计出来的芯片，无法发挥出任何作用，只能够成为又看“PPT”产品，而目前国内芯片制造技术在半导体材料、设备以及人才储备方面，都还有很大的提升空间，其中高端EUV光刻机，更是成为了限制国内芯片制造企业，迈向高端芯片制造领域的绊脚石，因为想要生产7nm EUV、5nm等高端工艺制程芯片产品，就离不开高端EUV光刻机设备支持，而在全球范围内，只有荷兰ASML公司能够生产制造EUV光刻机设备。
目前我国已经制定了国产芯片自给率的发展目标，想要在2025年实现70%国产芯片自给率目标，那么就需要大量提升国内芯片制造能力以及产能，这也意味着在未来几年时间内，我们将会用上大量的光刻机设备，用于提升芯片制造水平以及芯片产能，但我们目前国内芯片制造企业，一直都严重依赖于外国光刻机设备，所以想要实现70%自给率小目标，无疑发展国产光刻机设备也成为首要目标，那么目前国产光刻机设备水平到底如何呢？是否可以支撑我们的国产芯片完成70%自给率的小目标呢？
目前国内实力最强的光刻机厂商是上海微电子，而在2020年6月份，上海微电子披露了一份消息，将会在2021年-2022年期间，正式对外交付一台28nm制程工艺浸润式光刻机设备，采用的光源为第四代的ArF，波长为193nm，这也意味着我国的光刻机设备将会从90nm工艺时代迈入到28nm工艺时代。
但就在近日，上海微电子方面再次传来了好消息，那就是我国的光刻机将会迈入到14nm工艺制程时代，而此前中芯国际就掌握了14nm制程工艺芯片量产技术，这也意味着我国的芯片产业链将会达到14nm工艺水准，完全不需要依赖外国技术或者是设备，虽然距离高端7nm、5nm工艺芯片技术，还有着较大的技术差距；
并且根据日本经济新闻网报道，在对我国20多家半导体厂商进行采访调查，其中上海微电子更是直接回应：“目前公司的支柱产品依旧是生产90nm工艺芯片的光刻机，而用于生产28nm，14nm工艺芯片的光刻机，在成品率上还有一定的提升空间。”
我们从上海微电子官方正式回应来看， 我们的国产28nm工艺光刻机、14nm工艺光刻机已经造出来了，虽然在生产14nm芯片良率方面还有待提升，但相信随着我国众多科研人员的努力，国产光刻机一定可以取得更大的技术突破，让我国的芯片制造产业能够摆脱被“卡脖子”的威胁，让我们的国产芯片能够拥有更大的市场以及发展空间，完成我们所定下的70%国产芯片自给率目标；
当然最为厉害的国产半导体设备厂商，或许还是要数中国唯一的蚀刻机巨头—中微半导体，目前已经掌握了5nm工艺芯片蚀刻机技术，正式跻身于高端行列，所以在越来越多国产芯片厂商传来好消息以后，相信我们的国产芯片一定可以攻克更多的核心技术，让国产芯片也能够站在世界舞台之上。
最后：针对上海微电子的官方说辞，对于国产28nm工艺、14nm工艺光刻机设备，各位小伙伴们，你们对此都有什么样的看法和意见呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！
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