原标题：中科院传来光刻机突破
芯片领域的发展一直是全球关注的重点，光刻机作为芯片制造的基础，一直是我国难以跨越的鸿沟，尤其是在高端光刻机方面，不过功夫不负有心人，我国在光刻机领域终有所进展。
EUV光源、双工件台接连突破
上海微电子作为我国光刻机行业的领军企业，近些年的表现也是相当不错的，到目前为止，上海微电子已经掌握了90nm光刻机的制造能力，并且在28nm方面也有所成长，预计到2021年年末的时候会与大家见面
而光刻机最核心的三项技术分别是EUV光源、双工件台和光学镜头，这三项的难度可以说是不分上下，其技术方面我国经常受到西方国家的封锁。
最近中科院传来好消息，预示着我国在光刻机领域又有了新的突破，在生产光刻机技术方面，清华大学和联邦技术学院达成合作协议，共同提出了一种新型粒子加速器，并对其进行了验证，其结果显示通过ssmb的工作原理，可以为光刻机覆盖所需的EUV光源技术。
不仅如此，如今在双工件台技术方面也有所成就，华卓精科作为我国在该领域的杰出代表企业，目前与清华大学的专业团队进行合作，共同研制出的双工件台，其技术水准完全可以与阿斯麦相提并论，实力不相上下，据了解，上海微电子制造的28nm光刻机，其中利用的就是华卓精科的双工件台。
该双工件台的精度可以达到1.7nm，主要被应用在65nm以下的芯片制程，它的出现预示着我国在该领域技术的进步、打破西方国家的封锁，实现自主化生产。
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