原标题：事关EUV光刻机，荷兰ASML官宣新计划，三星如虎添翼
晶圆制程的不断微缩，导致半导体产业即将面临摩尔定律的物理极限。同时，也对芯片制造中不可或缺的设备的精度提出了更高的要求。
随着芯片制造精度的提升，晶圆代工厂需要更多的高精度生产设备，即EUV光刻机。但全球范围内，唯一一家能够量产EUV光刻机的只有荷兰巨头阿斯麦。
可阿斯麦的EUV光刻机年产量毕竟有限，三星电子、台积电等代工巨头只能选择提前砸重金抢购。
就目前的EUV光刻机保有量来看，台积电领先于三星，具备更强大的芯片量产能力。但日前荷兰阿斯麦官宣了事关EUV光刻机的新计划，三星电子将如虎添翼。
5月17日国外媒体报道称，阿斯麦公司将会在韩国华城设立EUV光刻机再制造工厂以及培训中心。
笔者了解到，为了此次建设新工厂，阿斯麦计划投资2.12亿美元。在笔者看来，韩国方面想必也会给予阿斯麦一定的补助，毕竟阿斯麦的入驻意义非凡。
阿斯麦在韩国建厂，有助于韩国当地芯片制造产业链的发展，能够让三星电子“近水楼台先得月”，抢购到更多数量的光刻机。
而且，阿斯麦在韩国的培训中心还可以帮助韩国芯片制造企业培训极紫外光刻机的操作人员。总而言之，阿斯麦的入驻对于三星电子或者整个韩国半导体产业而言，可谓是百利而无一害。
要知道，目前三星电子对EUV光刻机有很大需求。一方面，三星正处于5nm芯片工艺的产能爬坡阶段；另一方面，三星3nm工艺的量产也需要足够数量的光刻机。
因为三星为了超越台积电，在3nm工艺上冒险采用了全新的GAA技术。
相比传统的FinFET工艺，GAA技术的确能够更为精准地控制跨通道电流。而且还可以在一定程度上缩小芯片面积，降低功耗。
但不成熟性会导致3nm芯片量产过程中，可能发生一些意外情况。因此，三星需要在短时间内完成3nm GAA芯片的产能爬坡，否则会亏损。
需要注意的是，全球依旧在持续的缺芯潮，也是三星等企业对EUV光刻机需求较大的原因之一。
如果阿斯麦建厂的举动能够切实帮助到三星电子，那么在IBM、英特尔、三星三巨头联盟的情况下，台积电无疑会承受更大的竞争压力。
责任编辑：